ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装

xxn 阅读:80695 2024-12-02 12:00:37 评论:0

IT之家最新报道指出,ASML在其官方纪念品商城上推出了一款特别的产品:世界上首个High NA EUV光刻系统TWINSCAN EXE:5000的乐高模型套装。

TWINSCAN EXE:5000光刻机是首款使用0.55NA数值孔径的光刻机,分辨率可达8nm,其成像对比度比以往的NXE系列0.33NA EUV系统高出40%,支持2nm逻辑节点图案化,单价高达3.5亿欧元(折合约26.8亿元人民币)。

▲ 左侧为实物,右侧为乐高模型

▲ 模型另一侧

▲ 桌面效果

这款乐高套装是由ASML的开发人员Rick Lenssen设计的,他也是一位乐高爱好者。这个套装拥有851个部件,尺寸为352×99×64毫米,售价为227.95美元(合约1653元人民币)。

Rick Lenssen曾历时2.5年(包括1.5年的设计蓝图和1年的实际组装)用乐高积木复制了ASML的费尔德霍芬主园区,还推出了许多ASML主题的乐高套装产品。

▲ ASML费尔德霍芬主园区
图来源:Rick Lenssen个人网站

▲ ASML老Building (1)

▲ ASML费尔德霍芬园区部分建筑

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