ASML 发家史:从“漏雨棚屋”到全球光刻机领域领导者

xxn 阅读:64327 2025-03-23 10:01:10 评论:0

IT之家3月23日报道称,在当前半导体产业中,ASML(Advanced Semiconductor Material Lithography,先进半导体材料光刻)被认为是全球光刻机领域的领军企业。主要芯片制造巨头包括台积电、英特尔、三星等,他们生产的最先进半导体产品都高度依赖这家荷兰企业的设备。然而,ASML的创始故事不同寻常,据称一切始于一个“漏雨的棚屋”。

ASML最初是由电子巨头飞利浦(Philips)和先进半导体材料国际公司(ASMI)合资成立的,目标是专注于光刻系统这个新兴市场。1984年,ASML在荷兰埃因霍温的飞利浦旧园区Strijp-T创立,值得一提的是其第一个基地竟是一座名副其实的“漏雨棚屋”。这座单层预制建筑与飞利浦TQ大楼的一楼相连,而TQ大楼正是飞利浦“工业电子”部门的所在地。当年,因为ASML的首套PAS 2000光刻机的液压油泵噪音过大,团队不得不将油泵放在小屋外的集装箱中,以保持正常的工作环境。

幸运的是,ASML的业务很快蒸蒸日上。1985年,公司搬进了专门打造的办公和工厂大楼。一年后,改良的PAS 2500光刻机问世,并成为未来许多机型的基石。与此同时,ASML与知名镜头制造商卡尔・蔡司(Carl Zeiss)建立了合作关系,这一合作至今仍持续不断。

进入90年代,ASML推出了标志性的PAS 5500光刻机,“突破性平台”大获成功。凭借该系统在产能和分辨率方面的领先优势,ASML成功在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市。

2001年,ASML发布了一系列革命性的Twinscan光刻机,其中包括首批采用双工件台技术的设备。2010年,Twinscan系列光刻机再次升级,推出了采用极紫外(EUV)技术的Twinscan NXE:3100。最近几年,凭借其EXE平台和高数值孔径(High NA)技术,ASML再次突破了行业局限。

根据ASML最近公布的财报,公司去年收入接近310亿美元(IT之家注:现汇率约合2248.48亿元人民币),全球设有60多个运营地点,员工人数超过4.4万。

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