Rapidus 接收日本首台量产用 EUV 光刻机 ASML NXE:3800E

据悉，日本知名逻辑半导体制造商Rapidus已成功引进首台ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机，在北海道千岁市IIM-1晶圆厂完成交付并启动安装，标志着日本首次引入量产用EUV光刻设备。

来自Rapidus、日本政府、北海道及千岁市地方政府、ASML高管以及荷兰驻日本大使等相关人士共同出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式。

ASML最新推出的NXE:3800E光刻机是EXE系列0.33（Low）NA EUV光刻机型号，可满足Rapidus首代量产工艺2nm的制造需求。它与0.55（High）NA EXE平台共享部分组件，晶圆吞吐量较之前的NXE:3600D提升了37.5%。

除了EUV光刻机外，Rapidus还将在IIM-1晶圆厂引入一系列先进的半导体制造设备和全自动材料处理系统，以支持2nmz制程GAA结构半导体的生产。

Rapidus表示，IIM-1晶圆厂计划于2025年4月开始试产，所有半导体制造设备将采用“单晶圆工艺”，公司将建立名为RUMS（Rapidus Unified Manufacturing Services）的全新半导体代工模式。

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