尼康拟于 2028 财年推出新款浸没式 ArF 光刻机，与 ASML 主导生态兼容

据报道，尼康近日透露正在与合作伙伴合作开发新型光刻机产品，该产品将兼容ASML主导的浸没式ArF光刻生态，并计划于2028财年推出。

ASML目前在浸没式ArF光刻领域占据了九成以上的市场份额，而尼康则希望提升自己在该领域的市场占比，与干式ArF领域相当。

随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展，浸没式ArF光刻的需求不断增加。为了抢占更多订单，尼康计划使其新光刻机与ASML的设备生态兼容，方便用户迁移至尼康平台。

尼康表示，新一代浸没式ArF光刻机将采用新的镜头和工件台，具有紧凑、易于维护的优势。而下一代产品预计将在2030年后推出。

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